全球光刻机巨头ASML总裁彼得·温宁克在一次行业会议上发出警示：如果当前对华高端光刻机出口限制政策持续，中国很可能在三年内实现相关技术的自主突破。届时，ASML不仅可能失去庞大的中国市场，其全球市场地位也将面临严峻挑战。
温宁克指出，中国在半导体领域的投入正以前所未有的速度和规模推进。中国在芯片设计、制造工艺及设备研发方面取得显著进展，尤其是在国家政策与资本的双重驱动下，本土企业正加速攻克包括光刻机在内的关键“卡脖子”技术。他强调，技术封锁往往催生更强大的自主创新动力，历史经验表明，市场隔离反而会促使被限制方加快技术替代进程。
目前，ASML在极紫外光刻机领域占据绝对主导地位，而中国是其重要市场之一。由于地缘政治因素，荷兰政府跟随美国出口管制政策，限制向中国出口最先进的EUV光刻机，这已影响ASML在华业务拓展。温宁克坦言，短期看，限制措施似乎保护了技术优势；但长期而言，这会激励中国打造完全自主的半导体产业链，最终导致ASML失去市场准入机会。
值得注意的是，中国在互联网技术开发及相关设备销售领域已展现出强大的生态整合能力。从云计算、人工智能到物联网，中国数字经济的蓬勃发展持续拉动对高端芯片的需求。若中国成功实现光刻机等核心设备国产化，不仅将满足内需，还可能以更具竞争力的价格进入全球市场，重塑半导体设备供应格局。
业内分析认为，ASML的担忧反映了全球科技产业博弈的深层矛盾。技术脱钩与供应链割裂正在加剧，而中国市场庞大的应用场景和制造能力，为技术迭代提供了独特土壤。三年时间窗口，既是中国突破关键技术的压力期，也是ASML等国际巨头调整战略的关键期。
开放合作仍是技术进步的主流路径。温宁克呼吁，全球半导体产业应基于商业逻辑而非政治考量，通过良性竞争推动创新。否则，人为设置的壁垒最终可能让所有参与者付出代价——当中国掌握完整技术链，ASML面临的或许不仅是市场流失，更是一个重新洗牌的全球产业新秩序。
这一警示也为全球科技企业敲响警钟：在技术飞速发展的时代，没有任何优势是永久的。唯有持续创新、深化合作，才能在变革中保持竞争力。
